第六百八十一章 光刻机 (第7/9页)

范——集成电路上可容纳的元器件的数量每隔18至24个月就会增加一倍。而每一次制程前进，也会带来一次芯片性能性能的飞跃。这既是对芯片设计的要求，同时也是在要求光刻机必须领先设计环节一步，交付出相应规格的设备来。”

    李易文对此却产生了疑惑：“这些我都明白，可和你要造光刻机有什么关系呢？”

    陆逸明说：“造芯也好，造光刻机也好，关卡等级其实是指数级别增加的，上世纪90年代，光刻机的光源波长被卡死在193nm，成为了摆在全产业面前的一道难关。”

    “你知道的，凋刻东西，花样要精细，刀尖就得锋利，但是要如何把193nm的光波再“磨”细呢？现在全世界大半个半导体业界都参与进来，分两队人马跃跃欲试。”

    “康尼等岛国一系的半导体公司主张用在前代技术的基础上，采用157nm的f2激光，走稳健道路。而新生的euvllc联盟，则押注更激进的极紫外技术，用仅有十几纳米的极紫外光，刻十纳米以下的芯片制程。”

    说到这里，陆逸明语气稍顿，喝了一口茶，接着说道：“但技术都已经走到这地步，不管哪一种方法，做起来其实都不容易。这是一个关键的技术发展节点，更是新王和旧王彼此间的路线之争，同时也是我们唯一能够入局的机会。”

    最后，陆逸明的目光变得坚定起来，语气铿锵：“一旦岛国和欧美决出胜负，往后的二三十年里，就没有我们夏国什么事了。”

    李易文不是重生者，所以他“小富即安”，一切求稳。但是陆逸明知道，现在如果求稳，以后在半导体产业里，就只能跪着