第54章 王总工授课（2） (第4/5页)

法我也是很高兴的，科学研究就是要这样，通过不断地讨论我们才能取得进步。

    我现在给你们讲解下你们手中制造图纸最重要地三个部分：

    第一个部分是：双光束ttl对准技术。

    该技术主要通过在掩模一侧通过精缩物镜进行测量，该技术能允许连续的倍率控制，具有稳定性好、精度高、速度快等优点。

    利用该技术再配上‘超紫外光’能发挥出更大的工作能效。

    第二个部分是：场像对准技术。

    这种方法也叫视频图像处理对准技术（fieldimagealignment，fia），是指在光刻套刻的过程中，掩模图样与硅片基板之间基本上只存在相对旋转和平移，充分利用这一有利条件，结合机器视觉映射技术，利用相机采集掩模图样与硅片基板的对位标记信号。

    国际上其光源一般是宽带的卤素灯，波长在550~800nm。

    但是我对这个技术进行了优化调整，我们将会使用波长更为合适的蓝紫外光，同这样的调整，该技术相对于其他的对准方式其具有对准精度高、结构简单、可cao作性强、效率高的优势。

    第三个部分是：双焦点对准方法。

    这是星条旗国路易斯安那州立大学m．feldman等人设计的双焦点物镜对准系统，是针对一般情况下掩模硅片标记无法同时成像而改进的。

    不得不说，星条旗国为什么科技水平能领先于世界各国的确离不开这些科学巨匠