第53章 王总工授课（1） (第3/5页)

商的做法都是将晶圆曝光工具从人眼可见的蓝光端开始逐渐减小波长，直到光谱上的紫外线端（uv）。

    现在著名的厂商asml最终选择的13.5nm波长射线，可以轻易地被很多材料吸收，所以euv光刻机只能在真空下运行。

    但是我们的‘超紫外光’可以适应认为广泛的环境。

    第二个问题，弯曲射线。

    由于euv能被玻璃吸收，所以必须在机器中改变其走向，如此一来则必须用反射镜来代替透镜，而且必须使用布拉格反射器（一种多层镜面，可以将很多小的反射集中成一个单一而强大的反射）。

    这一问题各位也无需担心，我的制造图纸已经做了相应的解释。

    第三个问题，强大光源。

    一个euv光束在经过长途跋涉后，只有不到2%的光线能保留下来。为了减少成本，射线光源必须足够强，这个强度需要达到中心焦点功率达到250w。

    但是我们所使用的‘超紫外光’已经能实现最终50%的光线保留，所以这方面我们的优势也很大。

    第四个问题，独特光刻胶。

    现有的光刻胶是化学放大光刻胶，由分子链聚合而成，可以增强入射光子的效果。

    但这些材料对euv的吸收效果并不好。

    此外，由于入射光引起的放大反应在材料内部散射，光刻胶形成的图像会有轻微模糊。

    针对这个问题，‘