第53章 王总工授课（1） (第4/5页)

0.1纳米光刻机’重新设计了其配套的光刻胶，使用全新光刻胶就不会存在图像模糊情况。

    第五个问题，保护掩模板。

    当前主流的液浸式光刻机中，掩模版由一层被薄膜（即护膜）保护着。

    这层薄膜距离掩模版有一点悬空的距离，像保鲜膜一样紧绷在上方，其作用在于当灰尘落在护膜上时影响聚焦而不能在晶圆上形成图案，因此不会损坏整个晶圆。

    但是现在所用的的护膜不适用于其配套的的光源，因此euv会损坏护膜。

    同时若不使用护膜则很可能是最终良品率为0，这样一来整个光刻机的设计就是失败的。

    因此能够制造出适合的护膜也将使光刻机的使用效率极大提升。

    以上就是光刻机‘光源’制造的几个重点问题，各位你们还有其他的问题吗？或者还有什么不了解的地方，我们可以相互讨论。”

    王昊哲对于“光源”的讲解已经十分透彻，并且其提供的制造图纸也给了十分详细的说明。

    “既然在座的各位在‘光源’方面没有问题，那就请各位根据我今天讲的和我所提供的制造图纸进行相应的工作。

    期待各位能取得成功。”

    ………

    王昊哲马不停蹄的赶往中科院高精度玻璃研究所。

    高精度研究所作为中科院新成立的研究所，其科研成果发展迅速。

    在其专为“0.1纳米光刻机”项